厦门流光补贴升级,硅CMOS / GaAs MMIC工艺技术高达80%

近日,厦门市政府官方网站发布调整通知,调整“厦门市人民政府办公厅关于印发”加快集成电路产业发展实施细则“的通知”(下富办事处[2018]第58号)(以下简称“原始通知”)第17段补贴的第一补贴标准。

近日,厦门市政府官方网站发布调整通知,调整“厦门市人民政府办公厅关于印发”加快集成电路产业发展实施细则“的通知”(下富办事处[2018]第58号)(以下简称“原始通知”)第17段补贴的第一补贴标准。


原来的“集成电路企业研发的MPW资金来自MPW直接成本的70%,研发集成电路企业的测试资金不超过其处理费的30%。”用于研发的集成电路企业MPW应按照不超过70%的直接成本进行资助,研发的集成电路企业工程试件应按不少于其加工的30%进行资助。费用。两种先进工艺,如线宽≤55nm和GaAs MMIC工艺最小线宽≤250nm,在上述标准的基础上增加了10个百分点,即MPW直接成本的资金不超过80 %,工程试纸不是资金高于其加工费的40%。“


本规则调整通知的“流媒体补贴”标准自2018年1月1日起实施(含)。据悉,原始通知于2018年4月发布,涵盖了厦门集成电路发展的投融资政策,支持领域,人才补贴和科研支持等各种标准。


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